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四国マイクロ波プロセス研究会(SIMPI)第4回交流会開催の御案内

 マイクロ波加熱の特長である内部加熱、急速加熱、選択加熱について正しく理解していただき、今後、より広く産業プロセスへ展開していきたいとの目的で発足した当会ですが、まずは四国4県での普及活動を行おうと、第1回交流会を徳島で、第2回交流会を香川で、第3回交流会を愛媛で実施して参りました。今回、第4回交流会を下記の通り、高知にて実施することとなりましたので、お知らせ致します。

日 時

平成201128

場 所

国立大学法人高知大学 朝倉キャンパス 総合情報センター中央館 メディアホール(高知市曙町2-5-1   http://www.kochi-u.ac.jp/JA/m/acc.html

プログラム

1)13:00〜13:15 開会挨拶 (SIMPI代表) 近田 司 (高知大学教授) 小槻 日吉三
2)13:15〜14:15 「マイクロ波とは?」(四国計測工業(株) 研究員) 杉本 章司
(3)14:15〜15:00 ポスター、機器展示
(4)15:00〜15:50 「香酸柑橘搾汁残渣中の有用成分抽出へのマイクロ波の応用」(徳島大学 名誉教授) 津嘉山 正夫
5)16:00〜16:50 「マイクロ波濃縮装置の開発」
(高知県工業技術センター 主任研究員) 村井 正徳 
6)17:30-19:30 懇親会 (高知大学 生協食堂)

参加費

講演会:無料  懇親会:2000円(学内 生協)

申込・問合せ先

〒761-0301 香川県高松市林町2217-43 高温高圧流体技術研究所内 四国マイクロ波プロセス研究会 事務局
TEL 087-869-3440  FAX 087-869-3441
e-mail: simpi@kagawa-isf.jp
※申込書に必要事項を記入し、e-mailまたはFAXにて、11/7(金)までにお申し込み下さい。
開催案内・申込書(Wordファイル)のダウンロード→